[发明专利]稳定的高度微调机构有效
申请号: | 201610658527.2 | 申请日: | 2016-08-11 |
公开(公告)号: | CN106185198B | 公开(公告)日: | 2017-06-16 |
发明(设计)人: | 崔凯翔;吴桐 | 申请(专利权)人: | 北京领邦智能装备股份公司 |
主分类号: | B65G27/08 | 分类号: | B65G27/08 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 100084 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种稳定的高度微调机构,用于对一本体的高度进行精确微调,包括基座;限位结构,所述限位结构连接于所述基座与所述本体之间,以使所述基座与所述本体之间的水平相对位置固定不变;微调块,所述微调块一端设置有第二楔形块,所述第二楔形块与所述本体上的第一楔形块相互配合,所述微调块的另一端能够滑动地安装于所述基座上,所述楔形配合的角度α位于第一角度区域,或者所述楔形配合角度α位于第三角度区域中。本发明中,采用限位结构使基座与本体之间的水平相对位置固定不变,采用微调块楔形配合本体并滑动配合基座,使得本体相对于基座高度能够稳定地进行微调。 | ||
搜索关键词: | 稳定 高度 微调 机构 | ||
【主权项】:
一种稳定的高度微调机构,用于对一本体的高度进行精确微调,其特征在于,包括:基座;限位结构,所述限位结构连接于所述基座与所述本体之间,以使所述基座与所述本体之间的水平相对位置固定不变;微调块,所述微调块一端设置有第二楔形块,所述第二楔形块与所述本体上的第一楔形块相互配合,所述微调块的另一端能够滑动地安装于所述基座上;所述第一楔形块与所述第二楔形块配合的角度α位于第一角度区域或者第三角度区域中;其中,所述第一角度区域为完全自锁区域,第三角度区域为完全非自锁区域,第二角度区域位于所述第一角度区域和所述第三角度区域之外区域,为过渡区域。
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