[发明专利]绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

摘要

本发明提供一种绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。该镀膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层；其中，所述第一复合功能膜层和所述第二复合功能膜层均为三明治结构；所述三明治结构的中间层为银膜层，所述银膜层两相对表面叠设有保护膜层。本发明获得的绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃的透过率达到40％～75％、辐射率低于0.04，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.6，满足人们对绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃的需求。

主权项

1.一种绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层；所述玻璃基板为白玻；其中，所述第一电介质膜层由厚度为22nm的TiO₂膜层和厚度为7nm的ZnO膜层依次层叠形成；第一复合功能层由厚度为0.6nm的NiCr膜层、厚度为12.4nm的Ag膜层和厚度为0.6nm的NiCr膜层依次层叠形成；第二电介质膜层由厚度为10nm的ZnO膜层、厚度为69nm的TiO₂膜层以及厚度为10nm的ZnO膜层依次层叠形成；第二复合功能层由厚度为0.6nm的NiCr膜层、厚度为12.8nm的Ag膜层和厚度为0.6nm的NiCr膜层依次层叠形成；第三电介质膜层由厚度为7nm的ZnO膜层、厚度为18.2的Si₃N₄膜层以及厚度为3nm的TiO₂膜层依次层叠形成；或者，所述第一电介质膜层由厚度为25nm的TiO₂膜层和厚度为5nm的ZnO膜层依次层叠形成；第一复合功能层由厚度为3nm的ZnOx膜层、厚度为12nm的Ag膜层、厚度为0.6nm的NiCr膜层依次层叠形成；所述第二电介质膜层由厚度为78nm的ZnSnO₃膜层、厚度为12nm的ZnO膜层依次层叠形成；所述第二复合功能层由厚度为3nm的ZnO_x膜层、厚度为11nm的Ag膜层和厚度为0.6nm的NiCr膜层依次层叠形成；第三电介质膜层由厚度为7nm的ZnO膜层、厚度为17nm的TiO₂膜层以及厚度为3nm的SnO₂膜层依次层叠形成。