[发明专利]产生聚合物阵列的方法有效
| 申请号： | 201610663087.X | 申请日： | 2016-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN106446605B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 小托马斯·斯科特·保罗姆;周巍 | 申请（专利权）人： | 生捷科技控股公司 |
| 主分类号： | C12Q1/6834 | 分类号： | C12Q1/6834 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 郑霞 |
| 地址： | 开曼群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种聚合物阵列，所述聚合物阵列包含多个聚合物，每个聚合物固定于不同位置处并且与相邻聚合物的差异为且仅为一个亚单位。本文还提供产生一组掩模的方法，所述掩模可定义在基底上形成聚合物阵列的系列合成步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 聚合物 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列，其包含至少1,000个不同聚合物，每个聚合物偶合至表面上的不同位置，其中每个聚合物与和它相邻的聚合物的差异为至多5个亚单位。
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