[发明专利]利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法

摘要

本发明公开一种利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法，当光强反射率R取得最小值时，此时对应的空气隙厚度d₁即为需要镀制的介质薄膜的厚度；采用物理沉积法或化学沉积法在棱镜底面镀制介质薄膜；介质薄膜镀制完成后，采用精密测量仪器测量得出的所镀介质膜层的厚度，即为实际控制的纳米尺度空气隙的厚度。本发明解决了用来产生表面等离子体共振效应的Otto结构中纳米尺度空气间隙厚度难于精确控制的问题。

主权项

1.一种利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：①根据待测金属薄膜的折射率n，消光系数k，厚度d以及棱镜的折射率n＇确定经过Otto结构后的光强反射率R随空气隙厚度d1的变化关系，当光强反射率R取得最小值时，此时对应的空气隙厚度d1即为需要镀制的介质薄膜的厚度；②采用物理沉积法或化学沉积法在棱镜底面镀制介质薄膜：当在棱镜与待测金属薄膜之间镀制介质薄膜：即在棱镜底面长边的两端镀制介质薄膜，该介质薄膜的厚度为步骤①所确定，长度为棱镜底面短边的边长，宽度为2mm的长方体状介质薄膜；当在棱镜、柱面镜与待测金属薄膜之间镀制介质薄膜：即在柱面镜底面垂直于柱面镜直母线方向两端镀制圆弧状介质薄膜，该介质薄膜是厚度为步骤①所确定，弧长为柱面镜的弧长，宽度为2mm的圆弧状介质薄膜；③介质薄膜镀制完成后，采用精密测量仪器测量得出的所镀介质膜层的厚度，即为实际控制的纳米尺度空气隙的厚度。