[发明专利]一种直接耐晒黑G清洁生产工艺及系统

摘要

本发明公开了一种直接耐晒黑G清洁生产工艺。本发明针对直接染料(尤其是直接耐晒黑G)生产过程中酸(盐)析‑过滤‑碱溶工艺环节存在的耗酸(碱、盐)量大、产生废水处理难度大、有价物质流失量大等问题，提出一种清洁生产工艺。该工艺取消了酸(盐)析‑过滤‑碱溶工艺环节，并利用离子电迁移技术替换原有工艺的酸(盐)析‑过滤技术，实现染料中间体的提纯和盐分的排放，得到染料中间体溶液；而后经过两级STRO系统进行浓缩，以便减少溶液体积，提高染料中间体浓度，达到减小后续生产设备规模，降低能耗，或与已有设备无缝衔接的目的；离子电迁移工序中产生的浓盐水废水经过催化还原—曝气氧化—沉淀—催化臭氧氧化处理后排放。

主权项

一种直接耐晒黑G清洁生产工艺，其特征在于，依次包括如下主要步骤：重氮化、偶合、还原、分离、离子电迁移、管网式反渗透、第二次重氮化、再次偶合、干燥，其中，所述离子电迁移步骤是在直流电场的作用下，利用离子电迁移膜的选择透过性，实现溶液中无机盐与染料中间体的分离，获得浓盐水和脱盐提纯后的染料中间体溶液；所述管网式反渗透步骤为使用管网式反渗透膜过滤系统对经过离子电迁移步骤脱盐提纯后的染料中间体溶液进行浓缩，使溶液体积减少，同时染料中间体浓度升高。