[发明专利]基于白光扫描干涉的镀膜器件三维形貌测量方法有效
| 申请号： | 201610668555.2 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN106123805B | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 吕晓旭;蔡红志;周云飞;刘胜德;钟丽云 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 | 代理人： | 韩绍君 |
| 地址： | 510631 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于白光扫描干涉的镀膜器件三维形貌测量方法，其对应基底部分干涉信号零光程差位置提取过程转换为通过广义相关时延估计方法来求取不同像素间的干涉信号相对位移问题，从而可以精确的求出基底部分三维形貌信息。另外，还可利用本发明的测量方法获得待测镀膜器件的表面薄膜厚度。本发明提出的方法计算精度高，抗噪声性能强，无需标定光源的中心波长，并且对白光干涉信号的包络形状无要求，实施十分方便。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 白光 扫描 干涉 镀膜 器件 三维 形貌 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于白光扫描干涉的镀膜器件三维形貌测量方法，其特征在于，所述方法包括：选取待测区域对应不同基底材质的像素点作为参考像素点，通过傅里叶变换包络计算参考像素点对应基底部分干涉信号零光程差相对位移，所述待测镀膜器件包括基底及形成在基底上的薄膜；对选取参考像素点基底部分形成的干涉信号进行傅里叶变换处理；设置滤波窗口对经傅里叶变换处理后的傅里叶频谱进行频谱滤波；提取所有像素点的光强信号进行变换滤波处理；依次将所有像素点的光强信号与选取的参考像素点由基底部分形成的干涉信号匹配，找到相似性大的像素点；依次计算所有像素点的光强信号与匹配像素点由基底部分形成的干涉信号的零光程差位置相对位移。
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