[发明专利]GF2结构触摸屏及其制造工艺有效
| 申请号： | 201610671208.5 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN106249958B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 贾仁宝;王令;黎美峰;李文潮 | 申请（专利权）人： | 深圳市骏达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;B32B17/10;B32B27/36;B32B15/09;B32B17/06;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/00 |
| 代理公司： | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人： | 朱业刚 |
| 地址： | 518108 广东省深圳市宝安区石岩街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种GF2结构触摸屏及其制造工艺。所述GF2结构触摸屏包括，具有A面、B面两相对表面的基材层；以及自所述A面向外，依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有纳米银层；或，自所述A面向外，依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有曝光银胶层。本发明GF2结构触摸屏以纳米银层和曝光银胶层取代了现有的ITO导电材料，线宽可以达到2微米及以下，在实现触摸屏轻薄化的同时，还实现触摸屏的低阻抗和高透过率，并保持触摸屏的光学性能与现有双面ITO触摸屏相当。 | ||
| 搜索关键词： | 触摸屏 纳米银层 银胶层 盖板玻璃层 双面胶层 透明光学 制造工艺 叠设 曝光 导电材料 高透过率 光学性能 低阻抗 基材层 轻薄化 线宽 | ||
【主权项】：
1.一种GF2结构触摸屏，其特征在于：包括，具有A面、B面两相对表面的基材层；以及自所述A面向外，依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有纳米银层；或，自所述A面向外，依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有曝光银胶层；所述曝光银胶层的厚度为2～5μm。
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