[发明专利]一种提高开态电流的隧穿场效应晶体管有效
申请号: | 201610671901.2 | 申请日: | 2016-08-16 |
公开(公告)号: | CN106206704B | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 王向展;马阳昊;曹建强;谢林森;夏琪;归转转 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L21/331 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 吴姗霖 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种提高开态电流的隧穿场效应晶体管,属于超大规模集成电路中的逻辑器件与电路领域。本发明隧穿场效应晶体管在源区顶部通过InN或InxGa1‑xN材料形成极化隧穿层,利用InN或InxGa1‑xN的极化效应形成极化电场,增强了源区向极化隧穿区的载流子隧穿能力,提高了开态下的隧穿电流;由于关态下外延本征区的导带不变,载流子无法越过势垒漂移扩散至该区域,有效降低了器件的关态电流;外延本征区以及极化隧穿区的厚度都可以做到5nm及以上,有利于工艺的实现。本发明隧穿场效应晶体管在保证低的关态电流的前提下,有效提升了器件的开态电流,且降低了工艺难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 电流 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种提高开态电流的隧穿场效应晶体管,包括源区、中间本征区、漏区、极化隧穿区、外延本征区、栅氧层、栅和侧墙,所述极化隧穿区形成于源区内、且与外延本征区接触,其远离中间本征区的一侧与栅远离中间本征区的一侧位于同一直线上,用于增强源区载流子向极化隧穿区的隧穿;所述极化隧穿区采用InN、InxGa1‑xN中的一种或两种形成,0<x<1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610671901.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半浮栅晶体管工艺方法
- 下一篇:反向导通绝缘栅双极性晶体管
- 同类专利
- 专利分类