[发明专利]一种高精度电路及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610672103.1 申请日: 2016-08-15
公开(公告)号: CN106332460A 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 张兴业;王锴;宋延林 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司11275 代理人: 张水俤
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明披露了一种基于高压静电纺丝术制备高精度电路的方法,其特征在于,通过高压静电纺丝技术形成精细的抗蚀刻层,之后通过湿法化学蚀刻,继而制得高精度电路。本方法制备高精度电路线宽可控制在≤10μm,可通过调控喷孔尺寸和电纺溶液实现亚微米及纳米级窄线宽电路的制备。此外,基于普通静电纺丝最终形成的电路为无序交错的电路;近场静电纺丝具有直写特性、可控性,最终可形成规则有序的电路,在集成电路板、TFT电极、触摸屏和透明导电膜等领域有潜在的应用价值。
搜索关键词: 一种 高精度 电路 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于高压静电纺丝术制备高精度电路的方法,其特征在于,通过高压静电纺丝技术形成精细的抗蚀刻层,之后通过湿法化学蚀刻,继而制得高精度电路。
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