[发明专利]一种Ti-Al-Mo-N多组元硬质梯度膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610674114.3 申请日: 2016-08-16
公开(公告)号: CN106119784B 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 周宏明;刘亚雄;李荐;胡雪仪;简帅 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/06
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 颜勇
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种Ti‑Al‑Mo‑N多组元硬质梯度膜及其制备方法和应用;属于特种材料制备技术领域。本发明所Ti‑Al‑Mo‑N多组元硬质梯度膜以质量百分比计包括下属组分:Ti 55%‑85%、Al 8%‑30%、Mo 4%‑15%、N 3%‑25%。所述梯度膜通过电弧离子镀制备成具有基体/TiN/Ti‑Al‑Mo‑N的涂层;该涂层可用于造纸、印刷领域。本发明组分设计合理,工艺简单,便于大规模的应用,尤其是在印刷领域大规模的应用。
搜索关键词: 一种 ti al mo 多组元 硬质 梯度 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种Ti‑Al‑Mo‑N多组元硬质梯度膜的应用,其特征在于:包括将所述Ti‑Al‑Mo‑N多组元硬质梯度膜用作涂层,所述涂层的结构为基体/TiN/Ti‑Al‑Mo‑N;所述Ti‑Al‑Mo‑N多组元硬质梯度膜,以质量百分比计包括下述组分:Ti 55%‑85%;Al 8%‑30%;Mo 4%‑15%;N 3%‑25%;所述涂层的制备方法包括下述步骤:步骤一将表面清洁且表面光洁度Ra为0.07‑0.09um的基材置于电弧离子镀设备内,抽真空至电弧离子镀设备内的压力为0.03‑0.003Pa,然后通入氩气至电弧离子镀设备内的压力为0.16‑0.22Pa时,开启低能离子源,控制电弧离子镀设备内的温度为200℃‑250℃,控制加速电压为2.3‑6.0kV ,弧流为80‑100A、对基材进行活化清洗;得到活化基材;步骤二以纯Ti为Ti靶材,将Ti靶材以及步骤一所得活化基材置于电弧离子镀设备内,抽真空至电弧离子镀设备内的压力为0.03‑0.003Pa,同时控制活化基体的偏压为‑400~‑450V;然后通入N气至电弧离子镀设备内的N气的分压为1.2‑1.4Pa;并控制Ti靶材的电流为55‑60A,进行电弧离子镀,最后关闭控制电源,随电弧离子镀设备冷却至室温,得到带有TiN层的基材;进行电弧离子镀时,控制活化基材的转速为4~6r/min、控制施镀温度为380‑400℃;步骤三将步骤二所得带有TiN层的基材和Ti‑Al‑Mo合金靶置于电弧离子镀设备内,抽真空至电弧离子镀设备内的压力为0.03‑0.003Pa,同时控制活化基体的偏压为‑400~‑450V,通入N气至电弧离子镀设备内的N气的分压为2.2‑2.66Pa,并控制Ti‑Al‑Mo合金靶的电流为70‑80A,进行电弧离子镀,得到所述涂层;进行电弧离子镀时,控制带有TiN层的基材的转速为4~6r/min、控制施镀温度为450‑500℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中南大学,未经中南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610674114.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top