[发明专利]一种功率器件的结终端结构有效

专利信息
申请号: 201610676734.0 申请日: 2016-08-17
公开(公告)号: CN106098758B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 任敏;李爽;李家驹;罗蕾;李泽宏;张金平;高巍;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40;H01L29/06
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于半导体技术,特别涉及一种功率器件结终端结构。该结构包括位于N型漂移区2中的P型场限环3,及位于N型漂移区2上方的氧化层中的数个多晶硅岛。通过非均匀存储于多晶硅岛内的电荷调制半导体表面的电场分布,使表面电场分布更均匀,提高器件的可靠性。
搜索关键词: 一种 功率 器件 终端 结构
【主权项】:
1.一种功率器件的结终端结构,包括N型重掺杂单晶硅衬底(1)、位于N型重掺杂单晶硅衬底(1)下表面的漏极电极(7)、位于N型重掺杂单晶硅衬底(1)上的N型漂移区(2);所述N型漂移区(2)上层两侧分别具有P型场限环(3)和N+截止环(9);所述终端结构表面是氧化层(8),所述氧化层(8)内具有多个长度及厚度相等的多晶硅岛;所述多晶硅岛位于P型场限环(3)和N+截止环(9)之间并靠近P型场限环(3)一侧,与P型场限环(3)相邻的多晶硅岛边界不与P型场限环(3)重叠;所述多晶硅岛内存储有负电荷,且存储的负电荷密度满足条件:沿P型场限环(3)到N+截止环(9)的方向,从与P型场限环(3)相邻的多晶硅岛开始,多晶硅岛内的负电荷密度依次递减。
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