[发明专利]一种原子层沉积装置及方法

摘要

本发明提供一种原子层沉积装置及方法，所述原子层沉积装置包括：供气机构；排气机构；沉积基板与基板固定座；其中，所述进气机构的进气口与所述排气机构的出气口交替排列形成阵列平面，所述阵列平面与所述沉积基板的沉积表面相对，所述矩阵的表面面积大于所述沉积基板的沉积面积，且所述进气口对所述沉积基板供应所述前驱气体或所述净化气体时，所述前驱气体或所述净化气体可覆盖所述沉积基板的沉积面积。本发明可以大大缩短原子层沉积的周期，有利于大尺寸基板的生产。

主权项

1.一种原子层沉积装置，其特征在于，包括：进气机构，具有多个进气口，用于供应前驱气体及净化气体；排气机构，具有多个出气口，用于将中间副产物排出；沉积基板，用于沉积原子层薄膜；基板固定座，用于固定所述沉积基板；其中，所述进气机构的多个进气口与所述排气机构的多个出气口交替排列形成阵列平面，且每一所述出气口被所述多个进气口围绕，所述阵列平面与所述沉积基板的沉积表面相对，所述阵列平面的表面面积大于所述沉积基板的沉积面积，且所述进气口对所述沉积基板供应所述前驱气体或所述净化气体时，所述前驱气体或所述净化气体可覆盖所述沉积基板的沉积面积；所述进气机构的多个进气口包括多个前驱气体进气口与多个净化气体进气口，所述多个前驱气体进气口包括至少两种不同类型的所述前驱气体进气口，不同类型的所述前驱气体进气口供应不同的前驱气体，所述净化气体进气口供应所述净化气体。