[发明专利]显示装置用阵列基板制造方法、蚀刻液组合物及蚀刻方法有效
| 申请号： | 201610680609.7 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN106467969B | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 梁圭亨;金童基;金炼卓;权五柄 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;G02F1/1368;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;金鲜英 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及显示装置用阵列基板的制造方法、铜系金属膜蚀刻液组合物及蚀刻方法，所述铜系金属膜蚀刻液组合物相对于组合物总重量包含(A)过氧化氢(H2O2)5～30重量％、(B)含氟化合物0.01～3重量％、(C)5‑(碳原子数1～5的烷基)‑1H‑四唑0.01～3重量％、(D)在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.5～5重量％、(E)硫酸盐化合物0.05～1重量％、(F)多元醇型表面活性剂1～5重量％、及(G)余量的水，所述显示装置用阵列基板的制造方法使用上述蚀刻液组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液组合物 显示装置 阵列基板 蚀刻 铜系金属膜 多元醇型表面活性剂 制造 硫酸盐化合物 水溶性化合物 烷基 含氟化合物 方法使用 过氧化氢 碳原子数 氮原子 四唑 羧基 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置用阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：(a)在基板上形成栅电极的步骤、(b)在包含所述栅电极的基板上形成栅极绝缘层的步骤、(c)在所述栅极绝缘层上形成半导体层的步骤、(d)在所述半导体层上形成源电极和漏电极的步骤、以及(e)形成与所述漏电极连接的像素电极的步骤，所述(a)步骤或(d)步骤中的至少一个步骤包括：在所述基板上形成铜系金属膜的步骤、以及使用蚀刻液组合物对所形成的所述铜系金属膜进行蚀刻的步骤，所述蚀刻液组合物相对于组合物总重量包含(A)过氧化氢5～30重量％、(B)含氟化合物0.01～3重量％、(C)5‑(碳原子数1～5的烷基)‑1H‑四唑0.01～3重量％、(D)在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.5～5重量％、(E)硫酸盐化合物0.05～1重量％、(F)多元醇型表面活性剂1～5重量％、及(G)余量的水，且不包含5‑氨基四唑，蚀刻后的所述铜系金属膜具有40～60°的锥角。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友精细化工有限公司，未经东友精细化工有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610680609.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种提高丁醇发酵总溶剂产量的方法
- 下一篇：微粒子侦测器及筛选元件的制造方法
