[发明专利]一种钴铬烤瓷义齿的电泳沉积-激光熔覆复合加工方法有效

专利信息
申请号: 201610681342.3 申请日: 2016-08-18
公开(公告)号: CN106149030B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 郭立童;陈啸远;刘学梅;徐杰;陶庆;樊宇;冯培忠;强颖怀 申请(专利权)人: 中国矿业大学
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02;C23C24/10
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 221116*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种钴铬烤瓷义齿的电泳沉积‑激光熔覆复合加工方法。该方法先是采用电泳在牙科钴铬合金基底材料表面沉积瓷层,再采用激光熔覆将瓷层熔覆,即制得钴铬烤瓷义齿。本发明方法将解决烤瓷义齿加工过度依赖人工涂覆、重复性差的缺点,在钴铬烤瓷义齿加工过程中得到广泛应用。
搜索关键词: 一种 钴铬烤瓷 义齿 电泳 沉积 激光 复合 加工 方法
【主权项】:
1.一种钴铬烤瓷义齿的电泳沉积‑激光熔覆复合加工方法,其特征在于:采用电泳在牙科钴铬合金基底材料表面沉积瓷层,再采用激光熔覆将瓷层熔覆,即制得钴铬烤瓷义齿;具体步骤如下:步骤1,将烤瓷粉加入有机溶剂和水混合的分散介质中,并添加三乙醇胺,经磁力搅拌、超声波振荡制备成悬浮液;步骤2,通过电泳反应在牙科钴铬合金基底材料上沉积瓷层,其中阳极为已经过喷砂预处理的牙科钴铬合金基底材料,阴极为铂片电极;步骤3,采用激光熔覆的方法,将瓷层熔覆到牙科钴铬合金上,即得钴铬烤瓷义齿;所述步骤2中所述的牙科钴铬合金基底材料为牙科钴铬合金、钴铬钼合金、钴铬钨合金或钴铬钼钨合金中任一种;步骤2中所述电泳沉积电压为5~100V;电泳沉积时间为10min、12min、15min或20min;电极间距为1 ~ 5 cm。
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