[发明专利]一种隔垫物的制备方法有效
| 申请号： | 201610681530.6 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN106094427B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 郑奉官;王伟杰;曾庆慧 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种隔垫物的制备方法，属于显示领域。所述方法包括：对经过曝光处理的光刻胶层进行过度显影处理，以在基板上形成第一光刻胶图案和第二光刻胶图案，所述第一光刻胶图案靠近所述基板的底面外边缘形成有凹部，所述第二光刻胶图案靠近所述基板的底面外边缘凹部；等待预设时间使所述第一光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充所述第一光刻胶图案底面外边缘的凹部形成第一隔垫物，以及使所述第二光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充所述第二光刻胶图案底面外边缘的凹部形成第二隔垫物，所述第一隔垫物的高度大于所述第二隔垫物的高度。本发明能够简化制备隔垫物的工艺，降低制备隔垫物的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 隔垫物 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种隔垫物的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在基板上形成光刻胶层；使用掩膜板对所述光刻胶层进行曝光处理；对经过曝光处理的所述光刻胶层进行过度显影处理，以在所述基板上形成第一光刻胶图案和第二光刻胶图案，且以垂直于所述基板的方向为高度方向，使得在相同高度的位置处所述第一光刻胶图案的横截面的面积大于所述第二光刻胶图案的横截面的面积，并且在所述第一光刻胶图案靠近所述基板的底面的外边缘形成有凹部，在所述第二光刻胶图案靠近所述基板的底面的外边缘形成有凹部；等待预设时间使所述第一光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充所述第一光刻胶图案底面外边缘的凹部形成第一隔垫物，以及使所述第二光刻胶图案表面的光刻胶向下流动以填充所述第二光刻胶图案底面外边缘的凹部形成第二隔垫物，所述第一隔垫物的高度大于所述第二隔垫物的高度；后烘所述第一隔垫物和所述第二隔垫物以形成固态的所述第一隔垫物和所述第二隔垫物。
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