[发明专利]一种抛晶砖上光磨片及其制备方法在审
| 申请号： | 201610683110.1 | 申请日： | 2016-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN106078540A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 林江程;赵扬;张钻锋;钟剑明;林淑芬;开万军 | 申请（专利权）人： | 泉州众志新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24D3/28 | 分类号： | B24D3/28;B24D3/34;B24D18/00;B24D99/00 |
| 代理公司： | 泉州市潭思专利代理事务所(普通合伙) 35221 | 代理人： | 林丽英 |
| 地址： | 362000 福建省泉州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种抛晶砖上光磨片及其制备方法，上光磨片的材料组成按重量百分比为：主磨料金刚石颗粒5‑10％，酚醛树脂20‑30％，密胺树脂10‑15％，辅助磨料25‑35％，及辅助上光材料25‑40％。按所述材料配料制作混合料粉，再放入模具中加热烧结成型。本发明抛晶砖上光磨片创新地采用按特定比例混合的酚醛树脂和密胺树脂两种树脂，实现在抛晶砖上光方面取得了重大突破。酚醛树脂占比为20％‑30％,充分利用酚醛树脂的上光性能，密胺树脂占比10％‑15％，起到补充酚醛树脂锋利度欠缺的问题，两者按所述占比合理搭配使用上光效果极佳。市场上的产品光度只能达到15‑30度，本发明产品光度能达到30‑50度，优势很明显。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛晶砖 上光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种抛晶砖上光磨片，其特征在于，材料组成按重量百分比为：主磨料金刚石颗粒5‑10％，酚醛树脂20‑30％，密胺树脂10‑15％，辅助磨料25‑35％，及辅助上光材料25‑40％。
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