[发明专利]图像轮廓生成方法及装置在审

申请号：	201610687770.7	申请日：	2016-08-18
公开（公告）号：	CN106252250A	公开（公告）日：	2016-12-21
发明（设计）人：	马卫民;俞宗强	申请（专利权）人：	东方晶源微电子科技（北京）有限公司
主分类号：	H01L21/66	分类号：	H01L21/66
代理公司：	广州三环专利代理有限公司44202	代理人：	郝传鑫;熊永强
地址：	100176 北京市朝阳区北***	国省代码：	北京;11
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：	本发明提供了一种生成图像轮廓的方法和装置，其中的方法包括：基于设计目标信息生成一个掩模图，在所述掩模图上基于光刻效果仿真生成一个基准图像，基于在所述基准图像中的边缘探测生成一个基准图像轮廓图，从存储器中取出一个集成电路的扫描图像，生成一个扫描图像轮廓图，该扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和集成电路的扫描图像的函数。
搜索关键词：	图像轮廓生成方法装置
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【主权项】：

一种生成图像轮廓的方法，其特征在于，包括：基于设计目标信息，生成一个掩模图；基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真，生成一个基准图像；基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；从存储器中取出一个集成电路的扫描图像；生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数。

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专利分类

H 电学

H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造

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