[发明专利]一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法有效
申请号: | 201610687959.6 | 申请日: | 2016-08-18 |
公开(公告)号: | CN106148672B | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 鲁金忠;卢海飞 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C21D10/00 | 分类号: | C21D10/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及激光加工领域,具体涉及一种改变辅助磁场强度,得出最佳外加辅助磁场范围,并明显提高冲击强化效果的激光冲击强化方法。本方法主要是通过在通过改变电流大小,获得不同的磁场强度,并在相应磁场强度的辅助作用下,利用激光器对试样需要强化的区域进行激光冲击强化处理,最后对各个试样进行相关处理并对比得出外加变化磁场辅助激光冲击强化处理的最佳磁场强度范围,从而明显提高外加磁场对激光冲击强化的作用效果,增强其对试样的处理效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 外加 变化 磁场 辅助 激光 冲击 强化 方法 | ||
【主权项】:
1.一种外加变化磁场辅助激光冲击强化的方法,其特征在于:通过改变电流大小,获得不同的磁场强度,并在相应磁场强度的辅助作用下,利用激光器对试样需要强化的区域进行激光冲击强化处理,对试样进行激光冲击强化处理并对比得出外加变化磁场辅助激光冲击强化处理的最佳磁场强度范围,提高冲击强化的作用效果,具体步骤如下:(1)选取N个需要冲击强化的试样,置于磁场发生装置下方;(2)通过控制电路调节电流大小,使磁场发生装置的磁场强度为A1,其中磁场强度A1为初始值,在此磁场强度下,对需要强化的部位进行激光冲击强化处理;(3)改变电流大小,使磁场强度为A2,其中A2=A1+5mT,并对需要强化的部位进行激光冲击强化处理,激光冲击参数与步骤(2)相同;(4)依照步骤(3),改变电流大小,使磁场强度为Ai,其中Ai=Ai‑1+5mT,i的初始值为3,且3≤i≤N,进行激光冲击强化处理,激光冲击参数与步骤(2)相同;(5)每次使i增加1,循环进行步骤(4);(6)对冲击后的N个试样进行残余压应力测试。
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