[发明专利]基于全反射X射线荧光光谱的元素定量分析方法和系统有效
申请号: | 201610688201.4 | 申请日: | 2016-08-18 |
公开(公告)号: | CN106383135B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 石平;马俊杰 | 申请(专利权)人: | 广州市怡文环境科技股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 周清华 |
地址: | 510730 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基于全反射X射线荧光光谱的元素定量分析方法和系统。所述方法包括步骤:获取待测样品的全反射X射线荧光光谱;从所述全反射X射线荧光光谱中获得光谱背景曲线;从特征曲线库中获取预设的各个元素的特征曲线;根据所述光谱背景曲线和预设的各个元素的特征曲线对所述全反射X射线荧光光谱进行拟合,获得所述待测样品中包含的各个元素的浓度。本发明可以在全谱段范围内解决待测元素和未知元素的光谱相互干扰问题,获得更精确的定量分析结果。 | ||
搜索关键词: | 基于 全反射 射线 荧光 光谱 元素 定量分析 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种基于全反射X射线荧光光谱的元素定量分析方法,其特征在于,包括步骤:获取待测样品的全反射X射线荧光光谱;从所述全反射X射线荧光光谱中获得光谱背景曲线;从特征曲线库中获取预设的各个元素的特征曲线;根据所述光谱背景曲线和预设的各个元素的特征曲线对所述全反射X射线荧光光谱进行拟合,获得所述待测样品中包含的各个元素的浓度;所述根据所述光谱背景曲线和预设的各个元素的特征曲线对所述全反射X射线荧光光谱进行拟合,获得所述待测样品中包含的各个元素的浓度的步骤包括:将所述全反射X射线荧光光谱、所述光谱背景曲线以及预设的各个元素的特征曲线输入预设的目标函数,获得所述目标函数最小时的特征曲线对应的元素的比例系数;将目标函数最小时的特征曲线对应的元素的比例系数作为元素的光谱净强度,根据所述元素的光谱净强度获得所述待测样品中包含的各个元素的浓度;所述特征曲线为归一化特征曲线;所述预设的目标函数为以下表达式:
其中,F(xi)为全反射X射线荧光光谱,fBG(xi)为光谱背景曲线,wj为元素j的比例系数,fj(xi)为元素j的归一化特征曲线,xi为i通道的光子能量值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州市怡文环境科技股份有限公司,未经广州市怡文环境科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610688201.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。