[发明专利]一种有机发光器件的制备方法

摘要

一种有机发光器件的制备方法，制备步骤如下将基片处理后置于真空腔内抽真空；在基片上采用双源蒸镀的方法蒸镀由MoO3、NPB组成的混合物A，形成p型功能层；再蒸镀由TAPC或TCTA形成的电子阻挡层；再采用双源蒸镀的方法，将TPBi作为主体材料，PO‑01或者Ir(MDQ)2(acac)作为染料制备有机发光层；再蒸镀TPBi形成电子传输层；再采用双源蒸镀的方法蒸镀由Li和TPBi组成组成的混合物B，形成n型功能层；再采用双源蒸镀的方法蒸镀由MoO3、NPB组成的混合物C，形成p’型功能层；再真空蒸镀Al层，形成阴极，即得有机发光器件。本发明制备得到的有机发光器件效率高、电压低、工作寿命长。

主权项

一种有机发光器件的制备方法，其特征在于该方法的制备步骤如下：第一步：将ITO透明导电玻璃基片在清洗剂中超声处理后，进行清洗，再烘烤至干燥，然后用紫外灯和臭氧进行处理，再把处理过的ITO透明导电玻璃基片置于真空腔内，抽真空至3.0×10‑4～4.0×10‑4Pa；第二步：在ITO透明导电玻璃基片上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物A，形成具备空穴注入以及传输性能的p型功能层，其中混合物A由掺杂剂和主体材料NPB组成，掺杂剂为MoO3或F4‑TCNQ，蒸镀速率为0.3 Å/s，镀膜厚度为45 nm；第三步：在p型功能层上蒸镀由TAPC或TCTA形成的电子阻挡层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为14 nm；第四步：在电子阻挡层上采用双源蒸镀的方法，将TPBi作为主体材料，PO‑01或者Ir(MDQ)2(acac)作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为15 nm；第五步：在有机发光层上蒸镀TPBi，形成具有空穴阻挡和电子传输作用的电子传输层，其中蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为15 nm；第六步：在电子传输层上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物B，形成具备电子注入以及传输性能的n型功能层，其中混合物B由掺杂剂Li和主体材料TPBi组成，蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为10 nm；第七步：在n型功能层上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物C，形成具备空穴注入以及传输性能的p’型功能层，其中化合物C由掺杂剂和主体材料NPB组成，掺杂剂为MoO3或F4‑TCNQ，蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为35 nm；第八步：在p’型功能层上真空蒸镀Al层，形成阴极，即得有机发光器件，其中Al层的厚度为100nm。