[发明专利]一种多晶硅半熔铸锭用熔料及长晶工艺有效
申请号: | 201610694261.7 | 申请日: | 2016-08-19 |
公开(公告)号: | CN106087045B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 刘波波;贺鹏;蔺文;虢虎平;史燕凯 | 申请(专利权)人: | 西安华晶电子技术股份有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 710077 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种多晶硅半熔铸锭用熔料及长晶工艺,步骤一、熔化及后期排杂,过程如下:101、熔化:按照常规的多晶硅半熔铸锭法,采用多晶硅铸锭炉对装于坩埚内的硅料进行熔化;102、熔化后期排杂:采用多晶硅铸锭炉对装于坩埚内的硅料继续熔化,继续熔化时间为15min~40min;继续熔化过程中,通过调整顶部加热器和/或四个侧部加热器的加热功率,使0.8≤c<1;二、长晶及同步排杂:长晶过程中,通过调整顶部加热器和/或四个所述侧部加热器的加热功率,使0.3≤c<0.9。本发明工艺步骤简单、设计合理且实现简便、使用效果,在熔料后期及长晶过程中同步进行排杂,排杂效果好,能有效减少硬质点,并提高铸锭成品的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 熔铸 锭用熔 料及 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种多晶硅半熔铸锭用熔料及长晶工艺,其特征在于,该工艺包括以下步骤:步骤一、熔化及后期排杂,过程如下:步骤101、熔化:将多晶硅铸锭炉(3)内位于坩埚(1)上方的顶部加热器(2)和四个分别布设在坩埚(1)的四个侧壁外侧的侧部加热器(4)均开启后,按照常规的多晶硅半熔铸锭法,采用多晶硅铸锭炉(3)对装于坩埚(1)内的硅料进行熔化,熔化温度为T1~T2;其中,T1=1125℃~1285℃,T2=1530℃~1550℃;步骤101中进行熔化时,待坩埚(1)内侧底部硅料的厚度为13mm~20mm时,熔化完成;步骤102、熔化后期排杂:采用多晶硅铸锭炉(3)对装于坩埚(1)内的硅料继续熔化,继续熔化时间为15min~40min;继续熔化过程中,通过调整顶部加热器(2)和/或四个所述侧部加热器(4)的加热功率,使0.8≤c<1,并使多晶硅铸锭炉(3)的加热温度从T2逐步降至T3;其中,T3为多晶硅结晶温度且T3=1420℃~1440℃;其中,c为多晶硅铸锭炉(3)的顶侧比系数且
cding为顶部加热器(2)的功率比系数且
Pd为顶部加热器(2)的实际加热功率,Pdmax为顶部加热器(2)的最大加热功率;
Pc为侧部加热器(4)的实际加热功率,Pcmax为侧部加热器(4)的最大加热功率;Pdmax<Pcmax;步骤二、长晶及同步排杂:步骤一中熔化及后期排杂完成后,开始进行定向凝固并进入长晶过程;长晶过程中,通过调整顶部加热器(2)和/或四个所述侧部加热器(4)的加热功率,使0.3≤c<0.9;步骤二中进行长晶及同步排杂过程中,长晶速率控制在10mm/h~13mm/h。
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