[发明专利]用于处理地表径流和浅层地下水的反应格栅的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201610695199.3 申请日: 2016-08-19
公开(公告)号: CN107758757A 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 廖立兵;吕国诚;梅乐夫;魏耀祖 申请(专利权)人: 中国地质大学(北京)
主分类号: C02F1/00 分类号: C02F1/00;C02F1/28;B01J20/30;B01J20/22;C02F103/06;C02F103/00;C02F101/20
代理公司: 北京康思博达知识产权代理事务所(普通合伙)11426 代理人: 刘冬梅,路永斌
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于处理地表径流和浅层地下水的反应格栅的制备工艺,其中,所述制备工艺包括以下步骤步骤1、挖掘填充坑,并在填充坑的地上的左右两侧浇筑混凝土;步骤2、在填充坑底部铺设防水层,并在填充坑内架设取样井;步骤3、进行格栅主体(2)的填充以及前端缓冲区(1)和后端缓冲区(3)的堆砌;步骤4、进行测试,然后封顶。有本发明所述制备工艺制得的反应格栅结构牢固,可实现地表径流和浅层地下水的处理,同时采用特殊水处理剂,赋予格栅优良的水处理性能,实现水中重金属的有效脱除。
搜索关键词: 用于 处理 地表 径流 地下水 反应 格栅 制备 工艺
【主权项】:
一种用于处理地表径流和浅层地下水的反应格栅的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括以下步骤:步骤1、挖掘填充坑,并在填充坑的地上的左右两侧浇筑混凝土;步骤2、在填充坑底部铺设防水层,并在填充坑内架设取样井;步骤3、进行格栅主体(2)的填充以及前端缓冲区(1)和后端缓冲区(3)的堆砌;步骤4、进行测试,然后封顶。
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