[发明专利]一种降低多晶硅铸锭底部氧含量的多晶硅铸锭方法在审

专利信息
申请号: 201610695211.0 申请日: 2016-08-19
公开(公告)号: CN106222740A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 贺鹏;刘波波;蔺文;吴增伟 申请(专利权)人: 西安华晶电子技术股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06;C04B41/87
代理公司: 西安创知专利事务所61213 代理人: 谭文琰
地址: 710077 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种降低多晶硅铸锭底部氧含量的多晶硅铸锭方法,包括步骤:一、坩埚底部涂层制备:涂层喷涂液配制、喷涂和烘干;二、装料:向带底部涂层的坩埚内装入硅料,并将内装硅料的坩埚装入多晶硅铸锭炉内;多晶硅铸锭炉内装有六面加热装置;六面加热装置包括底部加热器、顶部加热器和四个侧部加热器;三、预热;四、熔化,过程如下:401、第一次升温;402、第二次升温;403、后续熔化;五、长晶;六、退火及冷却。本发明设计合理且实现简便、使用效果好,通过在坩埚底部涂覆一层以氮化硼为主要原料的底部涂层,并采用六面加热装置进行加热,能有效降低坩埚底部氧含量,并能有效减少铸锭成品的硬质点,提高铸锭成品的质量。
搜索关键词: 一种 降低 多晶 铸锭 底部 含量 方法
【主权项】:
一种降低多晶硅铸锭底部氧含量的多晶硅铸锭方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、坩埚底部涂层制备,过程如下:步骤101、涂层喷涂液配制:将有机胶结剂、去离子水和氮化硼按1∶(2~2.5)∶(0.8~1.2)的质量比均匀混合,得到涂层喷涂液;步骤102、喷涂:采用喷涂设备将步骤101中所述涂层喷涂液均匀喷涂至坩埚(1)的内部底面上,所述坩埚(1)内部底面上1m2区域内喷涂的所述涂层喷涂液中所含氮化硼的质量为100g~200g;所述坩埚(1)为多晶硅铸锭炉(9)用石英坩埚;步骤103、烘干:将步骤102中所述坩埚(1)水平放置于烘干设备内,并采用所述烘干设备且在80℃~100℃温度条件下对喷涂至坩埚(1)内部底面上的所述涂层喷涂液进行烘干,获得底部涂层(2);步骤二、装料:向步骤一中带底部涂层(2)的坩埚(1)内装入硅料,并将内装硅料的坩埚(1)装入多晶硅铸锭炉(9)内;多晶硅铸锭炉(9)内装有六面加热装置;所述六面加热装置包括布设在坩埚(1)下方的底部加热器(3)、布设于坩埚(1)上方的顶部加热器(2)和四个分别布设在坩埚(1)的四个侧壁外侧的侧部加热器(4),所述坩埚(1)为立方体坩埚且其呈水平布设,所述顶部加热器(2)和底部加热器(3)均呈水平布设,四个所述侧部加热器(4)均呈竖直向布设;步骤三、预热:将顶部加热器(2)、底部加热器(3)和四个所述侧部加热器(4)均开启,并采用多晶硅铸锭炉(9)对装于坩埚(1)内的硅料进行预热,并将多晶硅铸锭炉(9)的加热温度逐步提升至T1;预热时间为4h~6h,其中T1=1125℃~1285℃;步骤四、熔化,过程如下:步骤401、第一次升温:采用多晶硅铸锭炉(9)对装于坩埚(1)内的硅料进行熔化,熔化温度由T1逐步提升至T2;其中T2=1350℃~1400℃;步骤402、第二次升温:采用多晶硅铸锭炉(9)继续对装于坩埚(1)内的硅料进行熔化,熔化温度由T2逐步提升至T3;其中T3=1540℃~1560℃;步骤403、后续熔化:待坩埚(1)内的硅料全部熔化后,将多晶硅铸锭炉(9)的加热温度控制在T3,之后所述顶部加热器(2)和四个所述侧部加热器(4)的加热功率均开始下降,待所述顶部加热器(2)和四个所述侧部加热器(4)的加热功率均停止下降且持续时间t后,熔料过程完成;其中t=20min~40min;步骤401、步骤402和步骤403中所述顶部加热器(2)和四个所述侧部加热器(4)均处于开启状态,所述底部加热器(3)处于关闭状态;步骤五、长晶:将多晶硅铸锭炉(9)的加热温度由T3逐渐降至多晶硅结晶温度后进行定向凝固,直至完成长晶过程;其中多晶硅结晶温度为1420℃~1440℃;步骤六、退火及冷却:步骤五中长晶过程完成后,进行退火与冷却,并获得加工成型的所述多晶硅铸锭。
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