[发明专利]改善OPC版图处理不一致的方法有效
申请号: | 201610695909.2 | 申请日: | 2016-08-19 |
公开(公告)号: | CN106354908B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 孟鸿林;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种改善OPC版图处理不一致的方法,包括:采用层次化数据结构,对版图不同器件采用数据标示层形成初始版图数据;确定版图处理最小光学半径和OPC处理最小单元面积;提取初始版图的数据结构层次信息和各个器件的标示信息;确定器件标示下的最小图形重复图形和最小非重复图形及最小相似图形作为数据结构的第1层;采用最小重复图形将初始版图的图形替换作为可替换图形集合、非重复图形和相似图形作为不可替换图形集合并作为数据的第2层;将器件标示作为数据结构的第3层;将器件集合作为第4层并形成新版图数据;对新版图数据中的未包含重复图形的版图进行切分;调用OPC脚本和模型对各个层次进行OPC处理,将OPC的处理结果按照层次从低到高进行替换。 | ||
搜索关键词: | 改善 opc 版图 处理 不一致 方法 | ||
【主权项】:
1.一种改善OPC版图处理不一致的方法,其特征在于包括:第一步骤:在集成电路版图设计中采用层次化的数据结构,并对版图的不同器件采用数据标示层,由此形成初始版图数据;第二步骤:读入初始版图数据,并确定版图处理时的最小光学半径和OPC处理的最小单元面积;第三步骤:提取初始版图的数据结构层次信息和各个器件的标示信息;第四步骤:确定每一个器件标示下的最小图形重复图形和最小非重复图形,以及最小相似图形作为数据结构的第1层;如果版图数据的器件标示错误或者没有标示或者没有标示,则识别重复的数据图形和子单元的功能,确定整个版图的最小图形重复图形和最小非重复图形、以及最小相似图形作为数据结构的第1层;第五步骤:采用最小重复图形将初始版图的图形替换作为可替换图形集合、非重复图形和相似图形作为不可替换图形集合并作为数据的第2层;第六步骤:将所有的器件标示作为数据结构的第3层;第七步骤:将所有器件的集合作为第4层并形成新版图数据;第八步骤:对新版图数据中的未包含重复图形的版图进行版图切分;第九步骤:调用OPC脚本和模型并从新版图数据的最低层数据结构开始,依次对各个层次进行OPC处理,并将OPC的处理结果按照层次从低到高进行替换,其中,首先从数据的第1层开始处理,对重复图形,将对第1层OPC的处理结果对第2层的重复图形集合进行直接替换,对于相似图形,将对第1层OPC的处理结果对第2层的非重复集合先替换再进行OPC处理,对于完全不重复图形,直接进行OPC处理,就这样依次处理,但是都是基于在各个器件的数据结构下处理的,并不牵涉到对第4层数据的处理;第十步骤:将OPC处理好后各个切分版图进行合并存储为最终版图;第十一步骤:对最终版图进行一致性检查和校正。
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