[发明专利]一种多晶硅半熔铸锭用排杂方法有效

专利信息
申请号: 201610696080.8 申请日: 2016-08-19
公开(公告)号: CN106048718B 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 刘波波;贺鹏;蔺文;虢虎平 申请(专利权)人: 西安华晶电子技术股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 710077 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种多晶硅半熔铸锭用排杂方法,包括步骤:一、熔化及排杂,过程如下:101、熔化:采用多晶硅铸锭炉对装于坩埚内的硅料进行熔化,并向多晶硅铸锭炉内充入惰性气体进行保压;102、降压排杂;103、熔化后期排杂:先将多晶硅铸锭炉的气压进行升压,再对硅料继续熔化,并通过调整顶部加热器和/或四个侧部加热器的加热功率使0.8≤c<1,c为多晶硅铸锭炉的顶侧比系数;二、长晶及同步排杂:通过调整顶部加热器和/或四个侧部加热器的加热功率使0.3≤c<0.9。本发明方法步骤简单、设计合理且实现简便、使用效果,通过熔料后期同步排杂、降压排杂与长晶过程同步排杂有效减少铸锭成品的硬质点,能有效提高铸锭成品的质量。
搜索关键词: 一种 多晶 熔铸 锭用排杂 方法
【主权项】:
1.一种多晶硅半熔铸锭用排杂方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、熔化及排杂,过程如下:步骤101、熔化:将多晶硅铸锭炉(3)内位于坩埚(1)上方的顶部加热器(2)和四个分别布设在坩埚(1)的四个侧壁外侧的侧部加热器(4)均开启后,按照常规的多晶硅半熔铸锭法,采用多晶硅铸锭炉(3)对装于坩埚(1)内的硅料进行熔化,熔化温度为T1~T2;其中,T1=1125℃~1285℃,T2=1530℃~1550℃;步骤101中进行熔化过程中,向多晶硅铸锭炉(3)内充入惰性气体并将多晶硅铸锭炉(3)内气压保持在Q1,其中Q1=550mbar~650mbar;步骤102、降压排杂,过程如下:步骤1021、降压:将多晶硅铸锭炉(3)的加热温度控制在T2,并将多晶硅铸锭炉(3)的气压由Q1降至Q2,降压时间为8min~12min;其中,Q2=350mbar~450mbar;步骤1022、保压:将多晶硅铸锭炉(3)的加热温度控制在T2,并将多晶硅铸锭炉(3)内气压保持在Q2,保压时间为10min~60min;步骤103、熔化后期排杂:先将多晶硅铸锭炉(3)的气压由Q2升至Q1,再采用多晶硅铸锭炉(3)对装于坩埚(1)内的硅料继续熔化,继续熔化时间为15min~40min;继续熔化过程中,通过调整顶部加热器(2)和/或四个所述侧部加热器(4)的加热功率,使0.8≤c<1,并使多晶硅铸锭炉(3)的加热温度从T2逐步降至T3;其中,T3为多晶硅结晶温度且T3=1420℃~1440℃;其中,c为多晶硅铸锭炉(3)的顶侧比系数且cding为顶部加热器(2)的功率比系数且Pd为顶部加热器(2)的实际加热功率,Pdmax为顶部加热器(2)的最大加热功率;Pc为侧部加热器(4)的实际加热功率,Pcmax为侧部加热器(4)的最大加热功率;Pdmax<Pcmax;步骤二、长晶及同步排杂:步骤一中熔化及排杂完成后,开始进行定向凝固并进入长晶过程;长晶过程中,通过调整顶部加热器(2)和/或四个所述侧部加热器(4)的加热功率,使0.3≤c<0.9;步骤二中进行长晶及同步排杂过程中,长晶速率控制在10mm/h~13mm/h。
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