[发明专利]化学气相沉积涂层、制品和方法在审
| 申请号： | 201610697860.4 | 申请日： | 2010-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN106319477A | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | D·A·史密斯;J·B·马特泽拉;P·H·西尔维斯;G·A·贝伦 | 申请（专利权）人： | 西尔科特克公司 |
| 主分类号： | C23C16/32 | 分类号： | C23C16/32;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司11285 | 代理人： | 周志明,钟守期 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学气相沉积涂层、化学气相沉积制品和化学气相沉积方法。所述涂层、制品和方法包括二甲基硅烷的热分解，以实现期望的表面性质。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 涂层 制品 方法 | ||
【主权项】：
一种热化学气相沉积方法，包括：在反应室内分解二甲基硅烷从而将二甲基硅烷的分子片段沉积在反应室内的所有暴露的表面上；其中所述分解在在1.0p.s.i.a.至100p.s.i.a.的压力下和在300℃至600℃的温度下持续30分钟至24小时的时间。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
