[发明专利]一种二次谐波高分辨率成像方法及系统有效

专利信息
申请号: 201610700687.9 申请日: 2016-08-22
公开(公告)号: CN106404723B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 邵永红;屈军乐;汪磊 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 王利彬
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明适用于光学显微成像领域,提供了一种二次谐波高分辨率成像方法,包括以下步骤:产生激发光;对所述激发光进行调制,形成条纹激发光斑;移动所述条纹激发光斑,并且在每移动一次之后,将所述条纹激发光斑在样品上进行时间空间聚焦,以在样品上激发出二次谐波;逐次探测激发出的所述二次谐波;根据探测到的所有二次谐波进行频谱分析,获得图像。本发明还提供了一种二次谐波高分辨率成像方法及成像系统,包括:激发光源、空间光调制器、移动控制单元、光栅、物镜及探测器。本发明提供的二次谐波高分辨率成像方法及系统,可以获得高空间分辨率的二次谐波显微成像,扩大了二次谐波显微成像应用范围。
搜索关键词: 一种 二次 谐波 高分辨率 成像 方法 系统
【主权项】:
一种二次谐波高分辨率成像方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:产生激发光;对所述激发光进行调制,形成条纹激发光斑;移动所述条纹激发光斑,并且在每移动一次之后,将所述条纹激发光斑在样品上进行时间空间聚焦,以在样品上激发出二次谐波;逐次探测激发出的所述二次谐波;根据探测到的所有二次谐波进行频谱分析,获得图像。
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