[发明专利]一种圆弧齿状上凸下凹型砧有效
| 申请号： | 201610706859.3 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN106111871B | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 史雪吟;戴泽宇;沈益新 | 申请（专利权）人： | 江苏金源高端装备股份有限公司 |
| 主分类号： | B21J13/06 | 分类号： | B21J13/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213300 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种圆弧齿状上凸下凹型砧，包括上型砧（1）和下型砧（2），其特征在于，上型砧（1）为两侧锥面凸起到中间设置成凸出的两个相等半径R1的圆弧凸面，所述两个相等半径R1的圆弧凸面之间由半径R2的圆弧曲面光滑过度，下型砧（2）为V型锥面凹陷至中间设置成凸出的两个相等半径R1的圆弧凸面，所述两个相等半径R1的圆弧凸面之间由半径R2的圆弧曲面光滑过度，所述两个相等半径的圆弧曲面与V型锥面之间也由半径R2的圆弧曲面光滑过度，所述两侧锥面夹角和V型锥面夹角相等都为α，α取155°。采用该方法锻造解决了锻件内部缺陷，提高了生产率和型砧使用寿命，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 圆弧 齿状 上凸下凹型砧 | ||
【主权项】：
1.一种圆弧齿状上凸下凹型砧，包括上型砧（1）和下型砧（2），其特征在于：上型砧（1）为两侧锥面凸起到中间设置成凸出的两个相等半径R1的圆弧凸面，所述两个相等半径R1的圆弧凸面之间由半径R2的圆弧曲面光滑过度，下型砧（2）为V型锥面凹陷至中间设置成凸出的两个相等半径R1的圆弧凸面，所述两个相等半径R1的圆弧凸面之间由半径R2的圆弧曲面光滑过度，所述两个相等半径的圆弧凸面与V型锥面之间也由半径R2的圆弧曲面光滑过度，所述两侧锥面夹角和V型锥面夹角相等都为α，α可在135°～155°范围之内变化。
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