[发明专利]缺陷分类方法和缺陷检查系统有效

专利信息
申请号: 201610707841.5 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN106290378B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 马卫民;张健;张兆礼 申请(专利权)人: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01N21/95
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 100176 北京市朝阳区北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了缺陷分类方法和缺陷检查系统。其中,缺陷分类方法方法包括:基于对一个目标试样的检查,接收一个第一缺陷记录,所述第一缺陷记录包括一个未知缺陷所关联的一个第一缺陷图像;从所述第一缺陷图像中,用第一学习技术选择按重要性排序的第一组件,基于按重要性排序的所述第一组件,用第二学习技术判断所述第一缺陷图像是否关联于一个第一已知缺陷类型。
搜索关键词: 缺陷 分类 方法 检查 系统
【主权项】:
1.一种用于缺陷检查系统的缺陷分类方法,其特征在于,包括:基于对一个目标试样的检查,接收一个图像,所述图像包括缺陷且所述图像包括组件;由计算设备使用第一处理单元选择所述组件中的多个最重要的组件,其中,用支持向量机技术在训练流程中已判断至少一些所述组件的各权重,所述多个最重要的组件为具有最高的已判断的权重的组件,所述多个最重要的组件的数量小于所述组件的数量;将所述多个最重要的组件输入至基于神经网络的图像分类器以获得所述缺陷的缺陷类型。
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