[发明专利]像素结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 201610708340.9 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN106229300B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 陈永胜;徐湘伦 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L27/12;H01L29/06
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种像素结构及制作方法,该像素结构包括:一基板;阳极电极层,其设置于所述基板上;多个像素单元,其设置于所述阳极电极层上并呈矩形阵列排布,每一所述像素单元包括四个呈矩形阵列排布的子像素单元;任意相邻两个像素单元的相邻的一侧上的相互正对的两个子像素单元的发光颜色相同;阴极电极层,其设置于所述多个像素单元之上。本发明具有提高金属光罩制程能力以及提高像素单元的解析度的目的。
搜索关键词: 像素 结构 制作方法
【主权项】:
1.一种像素结构,其特征在于,包括:一基板;阳极电极层,其设置于所述基板上;多个像素单元,其设置于所述阳极电极层上并呈矩形阵列排布,每一所述像素单元包括四个呈矩形阵列排布的子像素单元;任意相邻两个像素单元的相邻的一侧上的相互正对的两个子像素单元的发光颜色相同,每一所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元、蓝色子像素单元以及白色子像素单元;阴极电极层,其设置于所述多个像素单元之上;所述像素结构还包括空穴传输层、空穴注入层、电子传输层以及电子注入层,所述像素单元、所述空穴传输层、所述空穴注入层以及所述阳极电极层依次层叠设置;所述阴极电极层、所述电子注入层、所述电子传输层以及所述像素单元依次层叠设置;所述红色子像素单元包括依次层叠设置于所述空穴传输层上的黄色发光层以及红色发光层;所述白色子像素单元包括依次层叠设置于所述空穴传输层上的蓝色发光层、黄色发光层、红色发光层;所述空穴传输层的各区域厚度为预设值,从而使得所述红色子像素单元的发光区位于对应的红色发光层,所述白色子像素单元的发光区位于对应的黄色发光层与蓝色发光层的交界处。
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