[发明专利]一种镍溶液深度净化除硅的方法在审
申请号: | 201610709019.2 | 申请日: | 2016-08-23 |
公开(公告)号: | CN106191442A | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 王甲琴;柴艮风;李兰兰;王国超;常雪洁;甘梅;胡敏艺 | 申请(专利权)人: | 金川集团股份有限公司 |
主分类号: | C22B3/44 | 分类号: | C22B3/44;C22B19/20 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人: | 陶涛 |
地址: | 737103*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 一种镍溶液深度净化除硅的方法涉及溶液除杂技术领域,包括:溶液加热、调节PH值、反应物分离3个步骤。反应物分离步骤得到的氢氧化镍渣可用于调节PH值步骤中,首次产生的氢氧化镍渣可多次循环使用3‑4次。本方法尤其适用于硫酸镍、氯化镍、硫酸镍与氯化镍的混合溶液硫酸镍钴溶液或硫酸镍钴与氯化镍混合溶液,镍总浓度为15~75g/L,硅含量为0.1~1g/L。 | ||
搜索关键词: | 一种 溶液 深度 净化 方法 | ||
【主权项】:
一种镍溶液深度净化除硅的方法,其特征在于:所述方法包括如下工艺步骤:A溶液加热:将富含镍的溶液置于容器中,加热至50~80℃;B调节PH值:入适量碱性物质,碱性物质加入过程伴随均匀搅拌,直到溶液PH值保持在4~6之间,具体数值根据溶液具体情况而定,当溶液PH达到预定数值后,继续搅拌一段时间,搅拌时间为1~10小时;所述碱性物质为浓度100‑400g/L的氢氧化钠溶液、氢氧化镍或浓度100‑400g/L氢氧化钠溶液与氢氧化镍的混合物;C反应物分离:对经过步骤B操作的物质进行固液分离,得到净化后的镍溶液以及氢氧化镍渣;固液分离可以采用抽滤分离或压滤分离;净化后的镍溶液硅含量小于0.005g/L。
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