[发明专利]投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版有效
| 申请号： | 201610709282.1 | 申请日： | 2016-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN106483773B | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 中泽朗 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版，该投影曝光装置使用掩模版形成图案，在提升生产量的同时，将掩模图案精度良好地转印到基板上。投影曝光装置(10)使用形成有图案排列数分别不同的多个掩模域(F1～F4)的掩模版(R)，针对形成于基板(W)的投射区域(CP)确定运算区域(OA)，在位置对准误差量在允许误差以下时，选择最大尺寸的掩模域。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 方法 以及 模版 | ||
【主权项】：
一种投影曝光装置，其特征在于，具有：曝光控制部，其按照在基板上确定的多个投射区域，对形成于掩模版的掩模图案进行转印；以及对准调整部，其按照多个投射区域，对设置在所述基板上的对准标记的位置进行检测，所述掩模版具有分别按照不同的图案数排列有掩模图案的多个掩模域，所述对准调整部根据检测出的对准标记位置，选择掩模域，所述曝光控制部对所选择的掩模域的掩模图案进行转印。
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