[发明专利]一种铜基板高亮度AlGaInP发光二极管及其制造方法在审
申请号: | 201610711477.X | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN106098876A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 肖和平;王宇;孙如剑;郭冠军;李威;张英;马祥柱;杨凯 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/64 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种铜基板高亮度AlGaInP发光二极管及其制造方法,属于LED生产应用技术领域,以厚度为150~200μm的铜基板为永久衬底,在侧制作键合层;在临时衬底的一侧进行外延工艺,形成外延片,通过键合层将两者键合后制成芯片,特点是:以硅进行掺杂制作n‑GaAs欧姆接触层时,以镁进行掺杂制作p‑GaP电流扩展层,在制作p‑GaP电流扩展层后,于p‑GaP电流扩展层上制作氧化铟锡透明导电层,再在氧化铟锡透明导电层上蒸镀金反射镜层。本发明可增加光电效应,大幅提升发光二极管的发光强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜基板高 亮度 algainp 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种铜基板高亮度AlGaInP发光二极管,包括衬底,在衬底的一侧设置n面扩展电极,在衬底的另一侧设置键合层、p‑GaP 电流扩展层、p‑AlGaInP 限制层、MQW 有源层、n‑AlGaInP 限制层、n‑AlGaInP粗化层、n‑GaAs 欧姆接触层、p面扩展电极层和 p电极;其特征在于还包括氧化铟锡透明导电层和金反射镜层,在所述衬底的另一侧上依次设置键合层、金反射镜层、氧化铟锡透明导电层、p‑GaP 电流扩展层、p‑AlGaInP 限制层、MQW 有源层、n‑AlGaInP 限制层和n‑AlGaInP粗化层,所述n‑GaAs 欧姆接触层设置在部分n‑AlGaInP粗化层上,所述p面扩展电极层设置在所述n‑GaAs 欧姆接触层上,p电极设置在部分p面扩展电极层上;所述衬底为厚度为150~200μm的铜基板。
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