[发明专利]一种自由集电极纵向PNP管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610715458.4 申请日: 2016-08-25
公开(公告)号: CN106449740A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 姜楠;简崇玺;赵建强;陈计学;赵娟 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01L29/732 分类号: H01L29/732;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 代理人: 陈俊
地址: 233042 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种自由集电极纵向PNP管,包括P型衬底,P型衬底中心设有N‑阱,N‑阱外侧的P型衬底上设有外P+埋层,N‑阱中心设有内P+埋层,P型衬底上方覆盖有N‑外延层,N‑外延层由外向内嵌有外P+隔离区、N+隔离区与内P+隔离区,外P+隔离区、N+隔离区与内P+隔离区间隔设置,外P+隔离区的底部与外P+埋层的顶部相接,N+隔离区的底部与N‑阱的顶部相接;内P+隔离区的底部与内P+埋层的顶部相接;N‑外延层中心还设有N‑基区,N‑基区上设有N+基区,N‑基区中心设有P+发射区;发射极与N‑阱通过深磷短接,接器件工作电压,使N‑阱与P型衬底、内P+埋层形成的PN结构处于反偏状态,实现器件纵向集电自由,克服了传统纵向PNP管集电极必须固定在最低电位的缺点。
搜索关键词: 一种 自由 集电极 纵向 pnp 及其 制备 方法
【主权项】:
一种自由集电极纵向PNP管,其特征在于,包括P型衬底,P型衬底中心设有N‑阱,N‑阱外侧的P型衬底上设有外P+埋层,N‑阱中心设有内P+埋层,P型衬底上方覆盖有N‑外延层,N‑外延层由外向内嵌有外P+隔离区、N+隔离区与内P+隔离区,外P+隔离区、N+隔离区与内P+隔离区间隔设置,外P+隔离区的底部与外P+埋层的顶部相接,N+隔离区的底部与N‑阱的顶部相接;内P+隔离区的底部与内P+埋层的顶部相接;N‑外延层中心还设有N‑基区,N‑基区上设有N+基区,N‑基区中心设有P+发射区;P+发射区顶部、N+基区顶部与内P+隔离区顶部分别引出发射极、基极与集电极。
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