[发明专利]一种用于刻蚀装置的闸门结构及其加工方法在审
| 申请号： | 201610715948.4 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN106340475A | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 苏彦荧 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人： | 王浩 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种用于刻蚀装置的闸门结构及其加工方法。闸门结构包括设有装配凹槽的固定体；以及可拆卸安装在装配凹槽上的细部零件，细部零件的与装配凹槽底面相接触面的对立面设有可容纳气缸杆端部的定位槽；固定体和细部零件构成调整式门体结。该加工方法包括，形成调整式门体的固定体以及外形相同并能装配细部零件的装配凹槽；加工细部零件的与装配凹槽底面相接触面的对立面，在对立面中部加工可容纳气缸杆端部的定位槽；将细部零件安装在固定体上。通过该闸门结构能始终保持闸门维持一定的高度，有效减少制程气体的泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 刻蚀 装置 闸门 结构 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种用于刻蚀装置的闸门结构，其特征在于：包括设有装配凹槽的固定体；以及可拆卸安装在装配凹槽上的细部零件，细部零件的与装配凹槽底面相接触面的对立面设有可容纳气缸杆端部的定位槽；固定体和细部零件构成调整式门体结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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