[发明专利]一种可以模拟冶金真空炉环境变化的激光诱导等离子体光谱分析系统在审
| 申请号： | 201610717256.3 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107782716A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 孙辉;樊仲维 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G01N21/71 | 分类号： | G01N21/71 |
| 代理公司： | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11394 | 代理人： | 唐曙晖 |
| 地址： | 100094*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 激光诱导等离子体光谱分析设备，其包括激光器、激光导入系统、待测样品室、光谱导出及收集系统、分光系统和光谱接收系统，其中激光器和光谱接收系统由同一脉冲发生器发送指令控制。激光器发射激光通过导入系统聚焦至样品处，使样品表面形成等离子体、生成激光诱导光谱并通过导出系统将产生荧光导出至光谱收集系统，通过对收集光谱的计算、处理和分析对样品中所含元素进行定性和定量检验，其中，待测样品室为一套模拟真空冶炼炉的真空实验腔，包括真空系统、真空度监测系统、电感熔炼系统，具备温度、真空度的同步监测采集功能，能够实现1800℃的升温加热，具有良好的真空维持特性，所述真空系统能够实现从0.1到10帕斯卡的真空度连续变化范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可以 模拟 冶金 真空炉 环境 变化 激光 诱导 等离子体 光谱分析 系统 | ||
【主权项】：
一种激光诱导等离子体光谱分析设备，该设备包括激光器、激光导入系统、光谱导出及收集系统、分光系统、光谱接收系统和待测样品室，其中，光谱导出及收集系统包括光谱导出子系统及光谱收集子系统，激光器和光谱接收系统由同一脉冲发生器发送指令控制，激光器发射激光通过激光导入系统聚焦至处于待测样品室内的样品处，使样品表面形成等离子体、生成激光诱导光谱并通过光谱导出子系统将所产生的荧光导出至光谱收集子系统，通过对收集光谱的计算、处理和分析以便对样品中所含元素进行定性和定量检验，其中待测样品室是模拟真空冶炼炉的真空实验腔。
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