[发明专利]一种真零级波片的下盘方法在审
| 申请号： | 201610719728.9 | 申请日： | 2016-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN106054305A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 朱一村;廖洪平;张晓春;王昌运;陈伟 | 申请（专利权）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350003 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真零级波片的下盘方法，包括一个容器、一个光胶板、真零级波片和酒精溶液，光学抛光时，真零级波片光胶在光胶板上；下盘时，容器中盛部分酒精，将真零级波片和光胶板一起浸入酒精中，在真零级波片与光胶板接触的地方，双面刀片成30°角度夹角，真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下，轻松的实现了剥离。本发明操作方便，加工成品率高，适用大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真零级波片 下盘 方法 | ||
【主权项】：
一种真零级波片的下盘方法，包括一个容器、一个光胶板、真零级波片和酒精溶液，光学抛光时，真零级波片光胶在光胶板上成一整体；下盘时，容器中盛部分酒精，将真零级波片和光胶板一起浸入酒精中，在真零级波片与光胶板接触的地方，双面刀片成30°角度夹角，真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下，轻松的实现了剥离。
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