[发明专利]一种用于光电材料光致发光谱辐射损伤的测试方法

摘要

本发明涉及一种用于光电材料光致发光谱辐射损伤分析的测试方法，该方法中涉及装置是由激光器、第一凸透镜、斩波器、低温样品室、载样铜片、待测光电材料、第二凸透镜、第三凸透镜、光栅光谱仪、探测器、锁相放大器和记录仪组成，利用斩波器斩波的具有频率的非连续激光，经过凸透镜聚焦后打在待测光电材料中心位置，样品受激光激发后发出的光经凸透镜收集聚焦并投射入光栅光谱仪的狭缝入口，经光谱仪分光后经由光电探测器接受信号，并经过锁相放大器对信号进行降噪放大，所采集的不同信号得出光电材料的光致发光谱，再将光电材料受高能粒子辐照后，再进行测试一次，即可得到光电材料的光致发光谱辐射损伤。该方法减轻了光电材料辐照前后光致发光谱测试的工作量；结构紧凑，操作简单方便。

主权项

一种用于光电材料光致发光谱辐射损伤的测试方法，其特征在于该方法中涉及装置是由激光器、第一凸透镜、斩波器、低温样品室、载样铜片、待测光电材料、第二凸透镜、第三凸透镜、光栅光谱仪、探测器、锁相放大器和记录仪组成，激光器（1）所发出的激光束的中心高度与第一凸透镜（2）焦点一致；第一凸透镜（2）垂直固定位置与载物铜片（5）之间距离为175mm，第一凸透镜（2）焦点高度与载样铜片（5）中心点高度一致；第一凸透镜（2）中心法线与载物铜片（5）表面呈45度角；载物铜片（5）垂直固定在低温样品室（4）中；待测光电材料（6）贴于载样铜片（5）中心处；第二凸透镜（7）垂直固定位置与栅光谱仪（9）入口狭缝之间的距离为350mm，第二凸透镜（7）焦点高度与光栅光谱仪（9）狭缝入口中心点高度一致；第三凸透镜（8）中心法线与载物铜片（5）表面呈135度角，第三凸透镜（8）固定位置与栅光谱仪（9）狭缝入口之间距离为175mm，第三凸透镜（8）与凸透镜（7）保持平行；第三凸透镜（8）焦点高度与上光栅光谱仪（9）狭缝入口中心点高度一致，锁相放大器（11）分别与斩波器（3）、探测器（10）和记录仪（12）连接，具体操作按下列步骤进行：a、将连接好的测试装置进行仪器初始化，待测光电材料（6）受高能粒子辐照前，贴于载物铜片（5）中心位置，安装在低温样品室（4）中；b、激光器（1）发出的激光经聚焦第一透镜（2）聚焦以及和斩波器（3）斩波后，形成具有频率f的非连续激光；c、将步骤b得到的非连续激光投射到低温样品室（4）中贴于载样铜片（5）上的待测光电材料（6）表面，受激发后发出波长850‑2000纳米的非连续光；d、将步骤c得到的由待测光电材料（6）受到步骤b得到的非连续激光激发而发出的球面光致发光信号经由第二凸透镜（7）转成一束平行光；e、将步骤d得到的平行光通过第三凸透镜（8）聚焦在光栅光谱仪（9）入口处；f、将步骤e得到的聚焦光致发光信号经光栅光谱仪（9）分光后送至探测器（10）收集光信号并传送至锁相放大器（11），锁相放大器（11）参考斩波器（3）的频率将信号降噪并放大传送至记录仪（12）得到待测光电材料（6）受激发后发出的光致发光谱；g、将待测光电材料（6）接受高能粒子辐照，再按步骤b‑步骤g重复进行测试一次光致发光谱，再将两次测试结果进行比对，即可得到光电材料受辐照后光致发光谱的辐射损伤。