[发明专利]一种荧光分子印记吸附分离材料的制备方法及其用途

摘要

本发明提供了一种荧光分子印记吸附分离材料的制备方法及其用途，包括如下步骤步骤1、SiO2纳米粒子的制备；步骤2、掺杂锰的硫化锌量子点的合成；步骤3、双键修饰的SiO2纳米粒子的制备；步骤4、双键修饰掺杂锰的硫化锌量子点的制备；步骤5、荧光分子印记吸附分离材料的制备。本发明一种表面分子印迹复合光催化材料的制备方法，属环境材料制备技术领域。此荧光分子印记聚合物将分子印记聚合物的选择性和量子点的荧光性质结合起来。可以通过荧光强度的改变对目标分子进行快速的检测。

主权项

一种荧光分子印记吸附分离材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、SiO2纳米粒子的制备；步骤2、掺杂锰的硫化锌量子点的合成：将ZnSO4·7H2O和MnCl2·4H2O加入到蒸馏水中，在N2保护下室温搅拌均匀，得到混合液A；向混合液A中滴加含有Na2S.9H2O水溶液B，滴加完毕后持续搅拌；最后，所的固体产物用乙醇和水清洗，真空干燥，记为Mn‑ZnS QDs；步骤3、双键修饰的SiO2纳米粒子的制备：将步骤1制备的SiO2纳米粒子超声分散在甲苯中，搅拌均匀，得到混合液C；然后向混合液C中滴加KH‑570，在N2保护作用下50℃反应；最后，产物用乙醇离心洗涤，真空干燥；步骤4、双键修饰掺杂锰的硫化锌量子点的制备：将步骤2制备的Mn‑ZnS QDs超声分散在甲苯中，搅拌均匀，得到混合液D；然后向混合液D中滴加KH‑570，在N2保护作用下50℃反应；最后，产物用乙醇离心洗涤，真空干燥；步骤5、荧光分子印记吸附分离材料的制备：将邻苯二甲酸二丁酯和丙烯酰胺溶解在乙腈中，超声混匀，然后在室温下搅拌发生自组装反应，得到反应液E；将双键修饰的SiO2纳米粒子、双键修饰Mn‑ZnS QDs和二甲基丙烯酸乙二醇酯加入反应液E中，N2保护下超声搅拌得到前预聚物溶液；然后，在N2保护下加入偶氮二异丁腈，得到混合液F，60℃下聚合反应；聚合反应结束后，用乙醇洗去未反应的物质；用乙醇/乙酸混合液洗去模板分子；产物在真空干燥箱干燥，得到荧光分子印记吸附分离材料，记为SiO2@QDs@MIPs。