[发明专利]千兆声波清洗技术在审
| 申请号： | 201610728627.8 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN106505011A | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 张简瑛雪;杨棋铭 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种半导体清洗系统。清洗系统包括盛有清洗溶液的腔室和千兆声波频率生成器。千兆声波频率生成器被配置为生成对应于千兆赫兹频率范围的电信号。传感器被配置为将电信号转变为通过清洗溶液传播压力和位移且在千兆赫兹频率范围内振荡的机械波。本发明还提供了半导体的声波清洗装置和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 千兆 声波 清洗 技术 | ||
【主权项】：
一种半导体清洗系统，包括：腔室，盛有清洗溶液；千兆声波频率生成器，被配置为生成对应于千兆赫兹频率范围的电信号；以及传感器，被配置为将所述电信号转变为通过所述清洗溶液传播压力和位移且在所述千兆赫兹频率范围内振荡的机械波。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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