[发明专利]一种超导回旋加速器真空排气系统有效
申请号: | 201610739607.0 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106211537B | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 潘高峰;张素平;张天爵;李振国 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | H05H7/14 | 分类号: | H05H7/14;H05H13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种超导回旋加速器真空排气系统,该真空排气系统包括第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路;所述第一排气通路设置在超导回旋加速器高频系统的高频内杆(7)内,所述第二排气通路设置在高频系统的高频内杆(7)与高频外导体(4)之间,所述第三排气通路设置在超导回旋加速器高频外导体(4)与主磁铁盖板(2)之间;第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路均通过高频内杆(7)端部设置的D板(5)排出。本发明的超导回旋加速器真空排气系统,根据高频系统结构设计特点,布置多个真空排气通路,提高了超导回旋加速器真空排气的流导,增加超导加速器真空获得率,降低束流损失,提高束流品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 超导 回旋加速器 真空 排气 系统 | ||
【主权项】:
1.一种超导回旋加速器真空排气系统,其特征是:该真空排气系统包括第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路;所述第一排气通路设置在超导回旋加速器高频系统的高频内杆(7)内,所述第二排气通路设置在高频系统的高频内杆(7)与高频外导体(4)之间,所述第三排气通路设置在高频系统的高频外导体(4)与超导回旋加速器主磁铁盖板(2)之间;第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路均通过高频内杆(7)端部设置的D板(5)排出,所述第一排气通路、第二排气通路及第三排气通路并联,所述高频内杆(7)侧面设有第一气体流通孔,第一排气通路内的气体通过第一气体流通孔排出,所述高频外导体(4)通过高频短路端(3)与高频内杆(7)相连接,高频短路端(3)设第二气体流通孔,第二排气通路内的气体通过第二气体流通孔排出。
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