[发明专利]一种背接触太阳能电池的制备方法及其电池和组件、系统在审
申请号: | 201610741342.8 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106299024A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 林建伟;刘志锋;季根华;孙玉海;刘勇;张育政 | 申请(专利权)人: | 泰州中来光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/028;H01L31/048;H01L21/265;H01L21/324 |
代理公司: | 北京金之桥知识产权代理有限公司11137 | 代理人: | 林建军 |
地址: | 225500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种背接触太阳能电池的制备方法及其电池和组件、系统。本发明的背接触太阳能电池的制备方法,包括在N型晶体硅基体的前表面制绒、背表面硼注入、背表面选择性磷注入、前表面磷注入、退火、清洗并制备钝化减反膜、印刷金属电极及烧结等步骤。其有益效果是:无需使用复杂的介质膜掩膜生长及开孔工艺就可形成交替排列的p+掺杂区域和n+掺杂区域,极大地简化了工艺流程;n+前表面场、背表面n+掺杂区域和背表面p+掺杂区域在一次高温工序中共同形成,极大减少了高温工序数目,节约了生产成本;使用离子注入和退火的方法完成掺杂,相对扩散来说其方阻均匀性更好,过程更容易控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 接触 太阳能电池 制备 方法 及其 电池 组件 系统 | ||
【主权项】:
一种背接触太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)、选择N型晶体硅基体,并对N型晶体硅基体的前表面作制绒处理;(2)、在处理后的N型晶体硅基体的背表面进行离子注入,注入元素包括硼;(3)、在处理后的N型晶体硅基体的背表面进行选择性地离子注入,注入元素包括磷,磷的注入剂量大于硼的注入剂量;(4)、在N型晶体硅基体的前表面进行离子注入,注入元素包括磷;(5)、将处理后的N型晶体硅基体进行高温退火处理,退火的峰值温度为800~1100℃,退火时间为30~200min;退火完成后在N型晶体硅基体的前表面形成轻掺杂的n+前表面场,在N型晶体硅基体的背表面形成背表面n+掺杂区域和背表面p+掺杂区域;(6)、将步骤(5)处理后的N型晶体硅基体进行清洗处理,去除前表面和背表面的氧化层,然后在N型晶体硅基体的前表面形成钝化减反膜,在N型晶体硅基体的背表面形成钝化膜;(7)、通过丝网印刷技术在N型晶体硅基体的背表面p+掺杂区域上印刷p+金属电极浆料,在背表面n+掺杂区域上印刷n+金属电极浆料,并进行烧结处理。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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