[发明专利]一种光罩检查机及其检查方法有效
申请号: | 201610742586.8 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106338884B | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 张贺 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G01N21/94 |
代理公司: | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种光罩检查机,包括:承载机构、搬运机构和设置在检查位置的旋转机构,旋转机构包括机架、可旋转地设于机架上的框体的旋转架以及设于旋转架上靠近机架的相对两边上设置的多对第一夹持组件,第一夹持组件可朝向对侧的机架移动。本发明还公开了一种光罩检查机的检查方法。在将光罩搬运至检查位置后,第一夹爪可以透过承载机构夹持在光罩靠近机架的两个相对侧面,光罩的承载机构可以自由取出而不影响检查,第一夹爪的实际夹持位置可调,可以用于检查多种规格的光罩且光罩不会发生滑动;而且在光罩的另两个侧面还设置有用于在承载机构退出后对光罩进行夹持的第二夹持组件,进一步保证了光罩的夹持可靠性,很好地保护了光罩不受损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 检查 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光罩检查机,其特征在于,包括:/n承载机构(10),包括用于承载光罩(1)的承载框(11);/n搬运机构(20),用于将所述承载机构(10)搬运至检查位置;/n旋转机构(30),设置在检查位置,包括机架(31)、可旋转地设于所述机架(31)上的框体的旋转架(32)以及设于所述旋转架(32)相对的边上的夹持组件(40),所述夹持组件(40)包括所述旋转架(32)上靠近所述机架(31)的相对两边上设置的多对第一夹持组件(41)和设置在所述旋转架(32)上与所述第一夹持组件(41)不同的另一对边上的多对第二夹持组件(42),所述第一夹持组件(41)可朝向对侧的所述机架(31)移动;/n每对所述第二夹持组件(42)的夹持长度可变,所述第二夹持组件(42)包括第二气缸(42a)和第二夹爪(420),所述第二气缸(42a)固定在所述旋转架(32)上,所述第二夹爪(420)固定在所述第二气缸(42a)的活塞杆上;所述第二夹爪(420)包括第二夹块(421)和第二弹性块(422),所述第二夹块(421)上开设有第二缺口,所述第二缺口两侧的端面的凸出长度不同,所述第二弹性块(422)嵌设于所述第二缺口内,且所述第二弹性块(422)的夹持面介于所述第二缺口两侧的两个端面之间,且所述第二缺口两侧较短的端面更远离所述旋转架(32)。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610742586.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学邻近修正方法
- 下一篇:着色感光性树脂组合物
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备