[发明专利]一种电磁干扰屏蔽结构有效
申请号: | 201610743469.3 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106332536B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 刘颖;李福腾;王耀东;刘楠;王鑫;张晓萍;王涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种电磁干扰屏蔽结构,属于电磁干扰屏蔽技术领域,其可解决现有的磁干扰屏蔽结构屏蔽效果差的问题。本发明的电磁干扰屏蔽结构中,图案化的第二金属层与第一金属层之间通过二者之间的绝缘层的过孔连接,使用时,第一金属层靠近欲保护的部件,图案化的第二金属层远离欲保护的部件,这样图案化的第二金属层屏蔽其他辐射源的电磁,其可将电磁反射回去;整层的第一金属层将屏蔽自身的电磁,防止干扰其它部件,该电磁干扰屏蔽结构屏蔽效果好。本发明的电磁干扰屏蔽结构适用于各个领域的电磁防护,尤其适用于印制电路板中高频信号线、集成电路的引脚、各类接插件等之间的电磁防护。 | ||
搜索关键词: | 一种 电磁 干扰 屏蔽 结构 | ||
【主权项】:
1.一种电磁干扰屏蔽结构,其特征在于,包括整层的第一金属层和图案化的第二金属层,所述第一金属层与第二金属层之间设有绝缘层,第一金属层与第二金属层通过绝缘层的过孔连接;所述图案化的第二金属层的图案包括多条由第二金属构成的短线结构;包括多层图案化的第二金属层,相邻的图案化的第二金属层之间均设有绝缘层,相邻的第二金属层之间通过二者之间的绝缘层的过孔连接。
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