[发明专利]一种OLED单面减薄方法在审

专利信息
申请号: 201610745474.8 申请日: 2016-08-29
公开(公告)号: CN106698957A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 张秀喜 申请(专利权)人: 湖北鸿创科技有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00
代理公司: 荆门市首创专利事务所42107 代理人: 董联生
地址: 448124 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种OLED单面减薄方法,具体步骤如下A、间隔纸粘贴间隔纸通过胶纸粘贴在OLED上设有功能区的一面;B、覆膜通过覆膜机将抗酸膜粘贴在OLED的一面;C、裁剪抗剪除将超过OLED边缘的抗酸膜进行剪除;D、点胶将抗酸膜的周边通过UV胶粘贴在OLED周边上;E、固化将步骤E中的OLED放入固化机内固化;F、蚀刻将固化完成的OLED放入蚀刻槽内进行蚀刻;G、蚀刻完成后人工撕去抗酸膜,即完成OLED单面减薄。本发明的优点是本发明采用覆膜方式可实现单面蚀刻,方法简单实用。
搜索关键词: 一种 oled 单面 方法
【主权项】:
一种OLED单面减薄方法,其特征在于具体步骤如下:A、间隔纸粘贴:间隔纸通过胶纸粘贴在OLED上设有功能区的一面,且间隔纸必须完全覆盖OLED功能区;B、覆膜:通过覆膜机将抗酸膜粘贴在OLED的一面,且间隔纸位于抗酸膜与OLED的之间;C、裁剪抗剪除:将超过OLED边缘的抗酸膜进行剪除;D、点胶:将抗酸膜的周边通过UV胶粘贴在OLED周边上,UV胶宽度2‑5MM;E、固化:将步骤E中的OLED放入固化机内固化;F、蚀刻:将固化完成的OLED放入蚀刻槽内进行蚀刻,蚀刻槽内温度30‑40°,蚀刻时间30min~3h;G、蚀刻完成后人工撕去抗酸膜,即完成OLED单面减薄。
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