[发明专利]高纯度铜电解精炼用添加剂和高纯度铜的制造方法有效
| 申请号： | 201610751052.1 | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN106480475B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 久保田贤治;樽谷圭荣;中矢清隆 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;刁兴利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供高纯度铜电解精炼用添加剂和使用该添加剂的高纯度铜的制造方法。一种高纯度铜电解精炼用添加剂，其被添加到制造高纯度铜的电解精炼的铜电解液中，其包括：主剂，由非离子型表面活性剂构成，所述非离子型表面活性剂具有包含芳香环的疏水基和包含聚氧化烯基的亲水基；以及应力松弛剂，由聚乙烯醇或其衍生物构成。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 电解 精炼 添加剂 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种高纯度铜电解精炼用添加剂，其被添加到制造高纯度铜的电解精炼的铜电解液中，其特征在于，包括：主剂，由非离子型表面活性剂构成，所述非离子型表面活性剂具有包含芳香环的疏水基和包含聚氧化烯基的亲水基；以及应力松弛剂，由聚乙烯醇或其衍生物构成。
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