[发明专利]一种工业纯钛TA2的电解腐蚀剂及电解抛光腐蚀方法在审
申请号: | 201610763735.9 | 申请日: | 2016-08-29 |
公开(公告)号: | CN106404501A | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 侯春梅;李卫军;胡锴;董晓峰;刘伟;吴楠;魏磊;杨杰 | 申请(专利权)人: | 中航动力股份有限公司 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人: | 王霞 |
地址: | 710021*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种工业纯钛TA2的电解腐蚀剂及电解抛光腐蚀方法,属于工业纯钛理化检测技术中金相组织检测领域。包括以下步骤1)将经预处理的工业纯钛TA2进行研磨及清洗处理,制成待腐蚀试样;2)采用电解腐蚀剂在待腐蚀试样表面进行电解抛光腐蚀处理;该电解腐蚀剂配制简单,侵蚀效果好,无污染,对工业纯钛TA2进行金相检查,可以更好的显示工业纯钛TA2的显微组织,能够客观地反映出TA2的组织形貌,α相的形态以及晶粒边界等。该电解抛光腐蚀方法效果好,腐蚀过程平稳,腐蚀后试样组织形貌显示效果好,可操作性强。 | ||
搜索关键词: | 一种 工业 ta2 电解 腐蚀剂 抛光 腐蚀 方法 | ||
【主权项】:
一种工业纯钛TA2的电解腐蚀剂,其特征在于,该电解腐蚀剂中,HF:CH3CH2OH:水的体积比为:(8‑10):(19‑21):(35‑37);且在该电解腐蚀剂中还添加有(NH4)2S2O8,添加量为:每8‑10mL HF添加1‑1.2g(NH4)2S2O8。
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