[发明专利]在片共面波导多线TRL校准件的设计与准确定义方法有效
申请号: | 201610763763.0 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106249187B | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 栾鹏;王一帮;吴爱华;梁法国;孙静;刘晨;孙晓颖;韩志国;张立飞;丁立强 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | G01R35/00 | 分类号: | G01R35/00 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 申超平 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种在片共面波导多线TRL校准件的设计与准确定义方法,涉及散射参数校准技术领域。该方法包括:根据算法分析及工艺加工能力设定多线TRL校准件传输线在目标频带下的几何尺寸及个数,并制作多线TRL校准件;测量多线TRL校准件的几何量;通过测量多线TRL校准件传输线的线电容,并结合传播常数得到多线TRL校准件传输线的特征阻抗。上述在片共面波导多线TRL校准件的设计与准确定义方法给出了传输线长度、导体厚度的选取准则,实现多线TRL校准件的准确定义,且经验证多线TRL校准件设计合理,准确度较高。 | ||
搜索关键词: | 片共面 波导 trl 校准 设计 准确 定义 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在片共面波导多线TRL校准件的设计与准确定义方法,其特征在于,包括以下步骤:1)根据算法分析及工艺加工能力设计多线TRL校准件传输线在目标频带下的几何尺寸及个数,并制作多线TRL校准件;2)测量所述多线TRL校准件的几何量;3)通过测量所述多线TRL校准件传输线的线电容,并结合传播常数得到所述多线TRL校准件传输线的特征阻抗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十三研究所,未经中国电子科技集团公司第十三研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610763763.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。