[发明专利]一种显影均匀性检测方法

摘要

本发明公开了一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；显影均匀性判定：根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断。本发明操作简单，有效提高了显影均匀性检测的效率。

主权项

1.一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：S101.曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；S102.承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；S103.显影均匀性判定：观察显影后承印晶圆上曝光阵列中的曝光单元格，其中，曝光单元格呈黑色代表有大量光刻胶残留；曝光单元格呈彩色代表有少量光刻胶残留；曝光单元格呈白色代表显影干净，没有光刻胶残留；根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断；其中以曝光阵列中最大中间显影能力值与最小中间显影能力值之差小于1 E_T为显影均匀的标准，即最大中间显影能力值与最小中间显影能力值之差小于1 E_T时显影均匀，最大中间显影能力值与最小中间显影能力值之差大于1 E_T时显影不均匀。