[发明专利]聚焦环和基板处理装置有效
| 申请号： | 201610766213.4 | 申请日： | 2016-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN106504969B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 富冈武敏;佐佐木康晴;岸宏树;徐智洙 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;朱弋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于使聚焦环的吸附特性稳定化。本发明提供一种聚焦环，其在处理容器内配置于载置基板的下部电极的周缘部、与该下部电极的部件接触，上述聚焦环的接触面由含硅材料、氧化铝(Al2O3)和石英中的任一者形成，上述聚焦环的接触面和上述下部电极的部件的接触面中的至少一者为0.1μm以上的表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种聚焦环，其在处理容器内配置于载置基板的下部电极的周缘部，与该下部电极的部件接触，所述聚焦环的特征在于：所述聚焦环的接触面由含硅材料、氧化铝和石英中的任一者形成，并且为0.1μm以上且1.0μm以下的表面粗糙度，所述聚焦环的接触面是所述聚焦环的与所述下部电极的部件接触的面。
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